在半導(dǎo)體深紫外光刻工藝中，NH?、HCL、HF 等痕量級(jí) AMC 空氣分子污染物堪稱產(chǎn)品質(zhì)量的 “隱形殺手"，其與化學(xué)放大光刻膠的反應(yīng)會(huì)直接影響半導(dǎo)體器件性能，而傳統(tǒng)監(jiān)測(cè)方法操作復(fù)雜、響應(yīng)遲緩、精度不足，難以滿足行業(yè)實(shí)時(shí)精準(zhǔn)監(jiān)測(cè)需求。在此背景下，杜克泰克推出獵戶座 3100S AMC 空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，以技術(shù)突破行業(yè)痛點(diǎn)，為半導(dǎo)體潔凈室監(jiān)測(cè)提供解決方案。

作為專為半導(dǎo)體行業(yè)量身打造的監(jiān)測(cè)設(shè)備，獵戶座 3100S AMC 空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)核心優(yōu)勢(shì)源于 CEAS（腔增強(qiáng)吸收光譜）技術(shù)。相較于傳統(tǒng)撞擊濾塵器、離子色譜等間接測(cè)量法，以及 CRDS 技術(shù)，該系統(tǒng)無需嚴(yán)格對(duì)準(zhǔn)激光束，安裝簡(jiǎn)便且機(jī)械穩(wěn)定性強(qiáng)，可快速精準(zhǔn)捕捉痕量級(jí)污染物。其檢測(cè)精度達(dá)到行業(yè)水平，HCl、HF 檢測(cè)限低至 0.1 ppb，NH?檢測(cè)限更是小于 0.1 ppb，實(shí)現(xiàn) sub-ppb 級(jí)實(shí)時(shí)測(cè)量，同時(shí)有效規(guī)避大氣中水汽、CO?、O?等成分的交叉干擾，確保數(shù)據(jù)精準(zhǔn)可靠。

系統(tǒng)在功能設(shè)計(jì)上充分適配半導(dǎo)體生產(chǎn)場(chǎng)景，具備多維度核心競(jìng)爭(zhēng)力。響應(yīng)速度極快，每個(gè)通道僅需 5 秒即可完成檢測(cè)，搭配 1-64 通道的靈活配置，可覆蓋寬測(cè)量區(qū)域，滿足多氣體高靈敏響應(yīng)需求。內(nèi)置 Linux 系統(tǒng)計(jì)算機(jī)，支持海量數(shù)據(jù)存儲(chǔ)與多接口輸出，通過 Ethernet、RS485/RS232 或 4-20mA 模擬模塊，可整合 4-6 臺(tái)分析儀數(shù)據(jù)。專屬 DUKE HMI 軟件集成多點(diǎn)采樣控制、實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)曲線顯示、報(bào)警、歷史趨勢(shì)分析等功能，更支持遠(yuǎn)程網(wǎng)絡(luò)控制，用戶借助瀏覽器在任意聯(lián)網(wǎng)地點(diǎn)即可實(shí)現(xiàn)多級(jí)權(quán)限操作，還能連接杜克泰克總部或服務(wù)商進(jìn)行遠(yuǎn)程診斷。

此外，獵戶座 3100S AMC 空氣分子污染物監(jiān)測(cè)系統(tǒng)盡顯便捷與經(jīng)濟(jì)性。采用 310 不銹鋼可移動(dòng)機(jī)柜，即插即用，幾分鐘內(nèi)即可完成潔凈間部署；無試劑、放射源等耗材消耗，固態(tài)電子器件無可移動(dòng)部件，維護(hù)成本極低且免維護(hù)期長(zhǎng)。系統(tǒng)還具備獨(dú)立可編程報(bào)警、繼電器設(shè)置、電源斷電數(shù)據(jù)不丟失、80 米超長(zhǎng)管線采樣等優(yōu)勢(shì)，開放的通訊協(xié)議更便于二次開發(fā)與集成，適配半導(dǎo)體行業(yè)苛刻的生產(chǎn)要求。

該系統(tǒng)的推出，不僅能有效提升半導(dǎo)體器件阻抗一致性，延長(zhǎng)過濾器使用壽命，減少生產(chǎn)停工時(shí)間，更以科技賦能推動(dòng)行業(yè)潔凈生產(chǎn)水平升級(jí)。杜克泰克憑借多年半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，以技術(shù)與貼心服務(wù)，為半導(dǎo)體企業(yè)提供可靠的 AMC 監(jiān)測(cè)保障。